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親水性白炭黑納米分散機，GMSD2000系列超剪切納米分散機，采用膠體磨+分散機一體化的結(jié)構(gòu)，二級模塊處理，先研磨后分散，打開白炭黑的聚集體，然后再瞬間充分均勻的分散，一般氣相法白炭黑分散后，粒徑可達DN90小于300nm。
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軟團聚納米材料高剪切分散機，采用膠體磨+分散機一體化的結(jié)構(gòu)，二級模塊處理，先研磨后分散，打開納米粉體的聚集體，然后再瞬間充分均勻的分散，一般納米材料分散后，粒徑可達DN90小于300nm。
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GR2000沉淀法白炭黑超細分散機模塊--實現(xiàn)混合分散粒徑要求的關鍵部分，是由兩層分散頭構(gòu)成，分散頭由定子齒列和轉(zhuǎn)子齒列構(gòu)成，構(gòu)成的分散剪切的幾何學形狀，在馬達帶動下，在齒列間隙中獲得的平均線速度非常高，能實現(xiàn)高達10000rpm的剪切率來獲得超細微懸浮液。
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