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  • GMSD2000藥物晶種濕法研磨分散機
    藥物晶種濕法研磨分散機

    藥物晶種濕法研磨分散機,目前許多結晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達到5-10UM ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無法達到要求的細度,結合多家客戶案例,推薦GMSD20000系列研磨分散機進行晶種研磨細化處理,轉速18000rpm,膠體磨+分散機一體化設備,粒徑可達D90≤10μm。

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  • GMD2000氮化硼超細研磨分散機
    氮化硼超細研磨分散機

    SGN氮化硼超細研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

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  • GRS2000/4濕法涂覆隔膜漿料分散機價格
    濕法涂覆隔膜漿料分散機價格

    濕法涂覆隔膜漿料分散機價格是由于轉子高速旋轉所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環(huán)往復

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  • GRS2000/4彩色顯影劑超高速分散機
    彩色顯影劑超高速分散機

    彩色顯影劑超高速分散機是電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化均質分散的效果。

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  • GRS2000/4濕法涂覆隔膜漿料分散機
    濕法涂覆隔膜漿料分散機

    濕法涂覆隔膜漿料分散機工作原理是由于轉子高速旋轉所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環(huán)往復

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